国度学问产权局信息表露，LPE公司肯求一项名为“来自反映室部分的碳化硅膜的光子援助化学蚀刻”的专利，公开号CN121693021A，肯求日历为2025年9月。
专利摘录表露，Z6尊龙本发明触及一种用于从适于在衬底上千里积碳化硅层的反映室的一个或多个部分蚀刻碳化硅膜的步调。该步调包括以下步调：(i)在用于千里积碳化硅的反映器的反映室的一个或多个部分上提供碳化硅膜；(ii)推论蚀刻经由的至少一个轮回。蚀刻经由包括至少一个UV光子援助化学蚀刻轮回。本发明还触及适于推论所述步调的反映器。
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